LH2018150-微弧离子镀设备研制及镀膜工艺开发

发布时间:2018-01-30         访问量:1635
编号 LH2018150
项目名称 微弧离子镀设备研制及镀膜工艺开发
项目简介 微弧离子镀(Micro-arc Ion Plating,MAIP)技术有机融合了多弧
离子镀和磁控溅射离子镀的优点,主要面向于精密制造领域的高端薄膜制备。微弧离子镀工艺因具有离化率高、绕镀性好、均匀性好、基片温升低等特点,是各种精密制品理想的表面改性工艺;以此技术开发的纳米氮化物系列超高硬度镀层、碳基非晶自润滑镀层、硫化钼基低摩擦系数镀层等在机械行业得到了广泛的应用。
联系人 殷亮
联系电话 02557675219
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